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第162章 【EDA的国产化之路】(2 / 2)


去年109厂哈市量刃具厂、阿城继电器厂共同研制了kha75-1型半自动接近接触式光刻机并获得了第一机械工业部科技工作一等奖。

该型号具有适应性强、功能齐全、性能良好特点在某些指标已达到canonpla500-f型水平。

按照历史进展两年后的1985年机电部45所将成功研制bg-101分步光刻机主要性能指标接近甚至达到米国gca公司的4800dsw系统水平。

同样在该年中科院沪市光学精密机械研究所研制出扫描式投影光刻机。

总体来看我国八十年代中期的光刻机水平即便和顶尖水平差一两代但差距不算太大可以存在赶追的可能性。

但在八十年代中后期造不如买买不如租的思想开始盛行贸工技妖风四起。

许多国企纷纷转型转产大项目纷纷落马没有了支持项目全部停滞包括大飞机运十同样如此。

导致我国自研的eda和光刻机技术被弃之一旁集成电路产业渐渐与国外脱节芯片成为卡脖子技术。

到后来asml已经开始生产3纳米光刻机我国才刚刚突破28纳米工艺技术水平差了将近六、七代。

后来国家发现技术是买不来、要不来、讨不来的才开始花大力气奋起直追。

中间甚至出现几十亿汉芯诈骗、上千亿投资的宏芯烂尾等等令人啼笑皆非的事。

可以说都是在为当初的错误决定买单。

放弃芯片制造光刻机是错放弃源头eda软件更是错上加错。

最后被人卡脖子的时候才后悔莫及。

但即便面临这种被各种卡脖子要你命的时候竟然还有某些人没有认识到这个要命问题!

还在叫喊着科学无国界甚至把国人的基因图谱发布到国外的杂志期刊上?

这人到底是坏还是蠢?

光刻机、eda国产化彭万华默默念叨了两句。

忽然觉得以他超前的视野和眼光完全可以让这个国家的集成电路和半导体行业少走点弯路。

甚至引领这个行业的发展。

想到这彭万华突然觉得资料也不枯燥了津津有味地看了起来。

设计eda软件需要三大块基础能力首先是项目管理能力毕竟这么大项目没有项目管理那将会是一场灾难。

二是编程能力再好的设想和架构都需要编程才能实现。

三是业务能力eda应用于设计、制造、封装、测试整个流程中和ic设计、ic制造、封测产业相辅相成。

如果不能理解集成电路和半导体业务流那设计出的eda软件肯定水土不服。

当然老徐的课题和这三个能力有一定关系但并不是强相关。

课题组并不是直接设计eda甚至连eda架构也算不上。

现在更多的是梳理产业现状国内外发展趋势行业面临的相关问题以及eda软件的技术可行性。

除了这些课题过程中会接触到一些软件并进行必要的试用试用是为了体会业务的逻辑以及为什么要这么做。

甚至为了和相关部门和工厂加强关系还得亲自手撸代码帮忙解决一些小问题。

至于具体eda软件国产化怎么实现并验证那就非这个小小的课题组所能解决的了。

所以这个课题的输出物即彭万华等人要输出的显而易见是一份材料和总结。

“走去微机房练练手去。”

正当彭万华看材料时董师兄上前喊他一起去微机房。


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